金融界2024年12月9日消息，国家知识产权局信息显示，苏州通富超威半导体有限公司取得一项名为“处理器清洁装置”的专利，授权公告号 CN 222112875 U，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本公开的实施例提供一种处理器清洁装置，所述清洁装置加装于处理器的加框平台，所述加框平台包括底座、可移动设于所述底座的加框组件以及用于承载所述处理器的定位夹具，所述定位夹具固设于所述底座；所述清洁装置包括静电消除器和气体导向管；所述静电消除器固设于所述加框组件且外接有气源，所述气体导向管第一端穿设于所述静电消除器，所述气体导向管第二端对应于所述定位夹具，以在所述加框组件移动时通过带正负电荷离子的气流吹扫所述处理器和外设于所述处理器的框架上的异物。本公开的实施例的处理器清洁装置，能够去除粘附在处理器和框架上的异物，对产品的外观质量有显著提升。
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